1、项目名称:中宝功率MOS-D二极管研发生产基地项目
2、业主单位:南京中宝电子有限公司
3、工程地点:江宁区湖山路东兴苑中路北侧
4、工程类别、规模:项目总建筑面积124670.58㎡,地上建筑面积89428.18 ㎡ ,地下建筑面积35242.4㎡。
5、工程内容:1号楼、2号楼(A座、B座、地上停车楼)、3号楼、地下室(含人防及非人防部分)。
1、项目名称:中宝功率MOS-D二极管研发生产基地项目
2、业主单位:南京中宝电子有限公司
3、工程地点:江宁区湖山路东兴苑中路北侧
4、工程类别、规模:项目总建筑面积124670.58㎡,地上建筑面积89428.18 ㎡ ,地下建筑面积35242.4㎡。
5、工程内容:1号楼、2号楼(A座、B座、地上停车楼)、3号楼、地下室(含人防及非人防部分)。